اینتل در پردازنده‌های گرافیکی نسل بعد Xe دیگر از فرایند تولید ۱۰ نانومتری استفاده نمی‌کند و فرایندهای ۶ و سه نانومتری TSMC را به‌کار می‌گیرد.

یک رسانه‌ی تایوانی ادعا می‌کند که اینتل پس از عرضه‌ی پردازنده‌های DG1 دیگر از فرایند تولید اختصاصی ۱۰ نانومتری خود استفاده نخواهد کرد. در ادامه‌ی گزارش گفته می‌شود که غول دنیای پردازنده، برای نسل بعدی محصلات خود روش‌های تولید شرکت TSMC را در نظر دارد. تغییر روش احتمالا در سال ۲۰۲۱ رخ می‌دهد و فرایندهای ۶ نانومتری شرکت تایوانی برای شروع کار انتخاب شده‌اند. استفاده از روش‌های تولید TSMC برای ساخت پردازنده‌های گرافیکی، قبلا هم به دفعات در اخبار مطرح شده بود. در اخبار جدید هم هیچ‌گونه تأیید یا تکذیب رسمی ازسوی شرکت‌ها دیده نمی‌شود. درنتیجه نمی‌توان چندان به ادعای کنونی رسانه‌ی تایوانی هم وقعی نهاد.